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等離子除臭裝置

簡要描述:等離(li)(li)子(zi)除(chu)臭裝置,等離(li)(li)子(zi)技術處理污染(ran)物(wu)的原理為(wei):在外加(jia)電場的作用下,介質放電產生(sheng)的大量攜能電子(zi)轟(hong)擊污染(ran)物(wu)分(fen)子(zi),使(shi)(shi)其電離(li)(li)、解(jie)離(li)(li)和激發,然后便引(yin)發了一系(xi)列(lie)復(fu)雜的物(wu)理、化學反(fan)應,使(shi)(shi)復(fu)雜大分(fen)子(zi)污染(ran)物(wu)轉變為(wei)簡(jian)單小分(fen)子(zi)安全物(wu)質,或使(shi)(shi)有毒有害物(wu)質轉變成無(wu)(wu)毒無(wu)(wu)害或低毒物(wu)質,從而(er)使(shi)(shi)污染(ran)得以降解(jie)去除(chu)。

  • 產品(pin)型號:
  • 廠商性質:生產廠家
  • 更新時間:2025-04-02
  • 訪  問  量:4233
詳細介紹
品牌谷耐

等離子除臭裝置

1980年代,日(ri)本東京(jing)大學S.Masuda教(jiao)授提出(chu)的(de)高壓脈(mo)沖電(dian)暈放電(dian)法(fa)是常(chang)溫常(chang)壓下(xia)得到低溫等離子體(ti)的(de)zui簡單、zui有效(xiao)的(de)方法(fa)。它已成(cheng)為目(mu)前(qian)的(de)研究前(qian)沿(yan),也正越來越多的(de)用于氣體(ti)污(wu)染物的(de)治(zhi)理。

       等(deng)離子(zi)技(ji)術(shu)處理(li)污(wu)染物(wu)的(de)原理(li)為:在外(wai)加電(dian)場的(de)作用下,介質(zhi)放(fang)電(dian)產生的(de)大量攜能(neng)電(dian)子(zi)轟擊污(wu)染物(wu)分子(zi),使其(qi)電(dian)離、解離和激發(fa)(fa),然(ran)后(hou)便引發(fa)(fa)了一系列復(fu)雜的(de)物(wu)理(li)、化學(xue)反應,使復(fu)雜大分子(zi)污(wu)染物(wu)轉變為簡(jian)單(dan)小(xiao)分子(zi)安全物(wu)質(zhi),或使有毒有害物(wu)質(zhi)轉變成(cheng)無毒無害或低毒物(wu)質(zhi),從而使污(wu)染得以降解去除(chu)。管線式低溫(wen)等(deng)離子(zi)除(chu)臭裝置結構(gou)簡(jian)單(dan),能(neng)耗低,分解污(wu)染物(wu)分子(zi)范(fan)圍寬、效(xiao)率高,正在越來越多地得到(dao)應用,是一項具有*潛在優(you)勢的(de)高新(xin)技(ji)術(shu)。

    管線(xian)式在運(yun)行過(guo)程中其殼體和導管的腐蝕(shi)(shi)問(wen)題是阻(zu)礙(ai)其發(fa)展應用主要障礙(ai)之一(yi),即便使用較好的不銹鋼材質(zhi)(zhi),其使用壽命(ming)也不過(guo)兩(liang)年,新出(chu)現的雙(shuang)介質(zhi)(zhi)阻(zu)擋采用了雙(shuang)絕緣隔離技(ji)術(shu)雖(sui)然解決了腐蝕(shi)(shi)問(wen)題,但其裝置制造成本大、能耗高、運(yun)行費用高。

工藝簡潔

    低溫等(deng)離子體設備(bei)結(jie)構簡單,操作方便,無(wu)需專人值(zhi)守(shou),遇故障(zhang)自動停機報警(jing)。

體積小

     約是(shi)同等(deng)處(chu)理規模的傳統設備(bei)重量(liang)的1/10。

節能

      低溫等離子體處(chu)理廢氣能耗低,運行(xing)費(fei)用低廉(lian),平均為2-5瓦時/米 。

適用范圍

(1) 適用于各種有機廢氣,無機廢氣的處理
(2) 在-40℃~+300℃的環境內均可正常運行
(3) 不適合用于達到燃爆極(ji)限的氣體處(chu)理中


設備使用壽命長

    本設備(bei)由不(bu)銹鋼,鉬等材料(liao)組成,配合(he)電化學防腐技術可在(zai)氧化性(xing)強和酸性(xing)氣(qi)體條件下正常工作,過流(liu)部件工作壽(shou)命(ming)不(bu)少于20000小時。且過流(liu)部件可更換。整機壽(shou)命(ming)10年以(yi)上。

組合性強

    低溫等離(li)子體處理設備可以串(chuan)并聯混合應用。500-2000m /h為一(yi)個(ge)低溫等離(li)子體處理裝(zhuang)置(zhi)單元,每個(ge)處理裝(zhuang)置(zhi)由4-18支過流部件(高頻率脈沖放電(dian)管)組成,一(yi)個(ge)單元用一(yi)個(ge)脈沖電(dian)源激勵。


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